CW2010-ZFA裂像顯微鏡

CW2010-ZFA裂像顯微鏡

主要技術參數：

1.鏡筒：鉸鏈式三目頭部  30°傾斜   270°旋轉。

2.高眼點平場目鏡: WF10X/22。

3.平場復消色差物鏡：(可根據使用需求選擇不同倍率的物鏡)。

注： 帶*號的為標配物鏡

4. 水平轉換器：五孔轉換器，可對每個轉換口進行調焦和調中,以消除物鏡和轉換器的制造誤差,保證測量精度。（本項已申請）。

5. 落射式照明系統： 高亮度LED燈（5W）。

6. 調焦結構：粗微動同軸調焦, 帶鎖緊和限位裝置，粗動升降范圍30mm，微動格值，0.001mm*100格，數顯解析值 0.0005mm。

7. 透射光源：LED光源，1W，亮度可調。

8. Z軸升降范圍：38mm以內，手輪轉動130mm  允許較高工件 130mm， 導軌精度3+L/1000 um。

X軸移動范圍：200mm  解析率：0.001mm  可解鎖手動快進，

Y 軸移動范圍：100mm  解析率：0.001mm  可解鎖手動快進，

測量精度(3+L/100)um  (L: 被測長度,um)

落射光測量誤差≤0.08%

9.Z軸采用裂像法原理進行觀察測量，結合精密的Z軸導軌，可有效保證測量的準確度。

10.工作臺尺寸: 360mm*250mm  玻璃板尺寸: 225mm *175mm  工作臺承重: 30kg

11.儀器外型尺寸：380mm*550mm*830mm。

12.凈重：100kg  毛重：120kg。

CW2010-ZFA裂像顯微鏡

用途：

適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測試、半導體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導線框架等產品的檢查觀察.也適用于經過磨拋、化學處理的工件表面的金相組織結構，幾何形狀進行顯微觀測。并且有三維的測量功能，其解析率達0.0005mm。因此是精密零件，集成電路，半導體芯片，光伏電池，光學材料等行業的*儀器。